研磨後的清洗（xǐ）
研（yán）磨是光學玻璃生產中決定其加工效率（lǜ）和表麵質量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主（zhǔ）要汙染物為（wéi）研磨粉和（hé）瀝青，少數企業的加工過程中會有漆（qī）片（piàn）。其中研磨粉（fěn）的（de）型（xíng）號各異，一般是以二氧化鈰為（wéi）主的堿金屬氧化物。根據鏡（jìng）片的材（cái）質及研磨精度不同，選擇不（bú）同型（xíng）號的研（yán）磨粉。在研磨過程（chéng）中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡麵被劃傷或腐蝕。研（yán）磨後的清洗設備大致分為兩種： 一種主要使用有（yǒu）機溶劑清洗劑，另（lìng）一種（zhǒng）主要使（shǐ）用半水基清洗劑。
一、有機溶劑清洗采用的清洗流程如下:
有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉（lā）幹燥（zào）。
有機溶劑清（qīng）洗（xǐ）劑（jì）的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前（qián）的溶劑清（qīng）洗劑多采（cǎi）用三氯乙烷或三氯乙烯。由於三氯乙（yǐ）烷屬ODS（消耗臭氧層物（wù）質（zhì））產（chǎn）品，目前處於強製淘汰階段（duàn）；而長期使用三氯乙烯（xī）易導致職業病，而且由於三氯乙烯很（hěn）不穩定，容（róng）易水解呈酸（suān）性（xìng），因（yīn）此會腐（fǔ）蝕鏡片及設備。對此，國內的清洗劑廠家研製生產了非ODS溶劑型係列清洗劑，可用於清洗光學玻璃；並且該係列產品具備不同（tóng）的物化指標，可有效滿足不同設備（bèi）及工藝條件的要求。比如在（zài）少數企業的生產過程中，鏡（jìng）片表麵有一層很難處理的漆片（piàn），要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業的清洗設備的（de）溶劑清洗槽冷（lěng）凝管較（jiào）少，自（zì）由程很短（duǎn），要求使用揮發（fā）較慢的（de）有機溶劑；另一部分企業則相反，要求使用揮發較快的有機溶劑等。
水基清洗劑（jì）的主要用途是清洗研磨粉。由於研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑（jì）對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產生的研磨粉（fěn）基本上是在水基清洗單元內除去的（de），故而對水基清洗劑（jì）提出了極高的要（yào）求。以前由於國內的光學玻璃（lí）專用水基清洗劑（jì）品種較少，很多外資企業都選用進口（kǒu）的（de）清洗劑（jì）。而目前國內（nèi）已有公司開發出光學玻璃（lí）清（qīng）洗劑，並成功（gōng）地應用在國內數家大型光學玻璃生（shēng）產廠，清洗效果完全（quán）可以取代進口產品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優於進口產品。
對於IPA慢拉幹燥（zào），需要（yào）說明的一點是，某些（xiē）種類的鏡片（piàn）幹燥後容易產生水印，這種現象一方麵與IPA的純度及空（kōng）氣濕度有關，另一方麵與清洗設備有較大的關係，尤其是雙臂幹燥的效果明顯不如單臂幹（gàn）燥（zào）的好，需要設（shè）備廠家及用戶注意（yì）此點。
二、半水基清（qīng）洗采用的清洗流程如下:
半（bàn）水（shuǐ）基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-水基清洗劑-市水漂洗-純水漂（piāo）洗-IPA脫水-IPA慢拉幹燥
此種清洗工藝同溶劑清（qīng）洗相比最大的區別在於，其前（qián）兩個清洗單元：有機溶劑清洗隻對瀝青或漆（qī）片具有良好的清洗效果，但卻無法清洗研磨（mó）粉等無機物；半水基清洗劑則（zé）不同，不但可以清洗瀝青等有（yǒu）機汙染物，還對研磨粉等無機物有良好的清洗效果，從而大（dà）大減（jiǎn）輕了後續清洗單元中水基清洗（xǐ）劑的清洗壓力。
半水基清洗劑的特點是揮發速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑（jì）清洗的設備在第一個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由於半水基清洗劑粘度較大，並且對後續工序使（shǐ）用的水（shuǐ）基清洗劑有乳化作用，所以第二個單元須市水漂洗，並且最好（hǎo）將其設（shè）為流水漂洗。
國內應用此種工藝的企業（yè）不（bú）多，其中一（yī）個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較昂貴。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶（róng）劑清（qīng）洗工（gōng）藝基本相同。
三、兩種清洗方式的比較
溶劑清洗是比較傳（chuán）統（tǒng）的方法，其優點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循（xún）環使用；但缺點也比較明顯（xiǎn），由於（yú）光學玻（bō）璃（lí）的生產環（huán）境要求恒溫恒（héng）濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對於工作環境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。
半水（shuǐ）基清洗是近年來逐漸（jiàn）發展成熟的一種新工藝，它是在傳統溶劑（jì）清洗（xǐ）的基礎上進行改進（jìn）而得來（lái）的。它有效地避免了溶劑（jì）的一些弱點，可以（yǐ）做到無毒，氣味（wèi）輕微，廢（fèi）液可排入汙水處理係統；設備上的配套裝置（zhì）更少；使用周期比溶劑要更（gèng）長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突出的（de）一個優點就是對於研磨粉等無機（jī）汙染物具有良好的清洗效果，極大（dà）地緩解了後續單（dān）元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水（shuǐ）基清洗（xǐ）劑的（de）用（yòng）量，降低了運行成本（běn）。缺點就是（shì）清洗（xǐ）的速度比溶（róng）劑稍慢，並且（qiě）必須要（yào）進行漂洗。
